產(chǎn)品名稱：
多功能電解質(zhì)測(cè)厚儀COULOSCOPE CMS2
發(fā)布時(shí)間：
2024-09-02
產(chǎn)品品牌：
Helmut Fischer/德國菲希爾
產(chǎn)品特點(diǎn)：
多功能電解質(zhì)測(cè)厚儀COULOSCOPE CMS2作為測(cè)量鍍層厚度*簡單的方法之-一，庫侖法可以用于各種鍍層組合。尤其對(duì)于多鍍層結(jié)構(gòu)，當(dāng) 允許破壞性測(cè)量時(shí)，它提供了一個(gè)比X射線更經(jīng)濟(jì)的替代方法。強(qiáng)大并且用戶友好的COULOSCOPE CMS2適用于電鍍行業(yè)的生產(chǎn)監(jiān)控和成品的質(zhì)量檢驗(yàn)
多功能電解質(zhì)測(cè)厚儀COULOSCOPE CMS2 的詳細(xì)資料：
CMS2特征
? 大尺寸高分辨率的彩色顯示器 ? 簡單的操作和圖示的用戶指導(dǎo) ? 使用V18支架實(shí)現(xiàn)半自動(dòng)化測(cè)量 ? 電解速度和測(cè)量面積的簡單選擇 ? 電壓曲線圖形顯示 ? 圖形和統(tǒng)計(jì)分析 ? 多語言和計(jì)量單位可供選擇
CMS2 STEP 特 殊功能 ? 同時(shí)測(cè)量鍍層厚度和電位差 ? 銀參比電極的簡單準(zhǔn)備 ? 可調(diào)節(jié)的電解電流
COULOSCOPE CMS2介紹
作為測(cè)量鍍層厚度*簡單的方法之-一，庫侖法可以用于各種鍍層組合。尤其對(duì)于多鍍層結(jié)構(gòu)，當(dāng) 允許破壞性測(cè)量時(shí)，它提供了一個(gè)比X射線更經(jīng)濟(jì)的替代方法。 強(qiáng)大并且用戶友好的COULOSCOPE CMS2適用于電鍍行業(yè)的生產(chǎn)監(jiān)控和成品的質(zhì)量檢驗(yàn)。 很多常見的單、雙鍍層例如鐵鍍鋅或者銅鍍鎳鍍錫都可以用CMS2簡單快速地測(cè)量。這個(gè)方法為任何金屬鍍層提供了精確的測(cè)量。在厚度范圍0.05.50um內(nèi)，很多,材料不需要預(yù)設(shè)定:基材組成和幾何形狀對(duì)于測(cè)量都是無關(guān)緊要的。*常見的應(yīng)用之- -就是測(cè)量線路板上剩余的純錫，以確?？珊感?。多鍍層例如Cr/ Ni/Cu在鐵或者塑料(ABS)基材上,經(jīng)常被用于高品質(zhì)的浴室用品，也可以用這個(gè)方法進(jìn)行測(cè)量 。
COULOSCOPE CMS2的應(yīng)用實(shí)例 : 電鍍緊固件，測(cè)量PCB板上的剩余純錫厚度，鍍鉻件以及浴室用品
測(cè) 量 原理： 這個(gè)系列儀器根據(jù) DIN EN ISO 2177 標(biāo)準(zhǔn)的庫侖法。金屬或非金屬基材上的金屬鍍層，通過在控制電流條件下電解腐蝕--------實(shí)際上就是電鍍的反過程。所載入的電流與要?jiǎng)冸x的鍍層厚度是成正比的，假如電流和剝離面積保持不變，鍍層厚度與電解時(shí)間就是成正比的關(guān)系。
下面的公式適用于通過庫侖法電解腐蝕確定鍍層厚度：
測(cè)量槽 ------可比作微型電解缸------被用來剝離鍍層。 測(cè)量面積由裝在測(cè)量槽上的墊圈尺寸來決定。對(duì)不同的金屬采用不同配方的電解液。 通過載入電流開始電解過程。電解過程由 COULSCOPE 儀器的電子部分控制， 用一個(gè)泵攪拌電解液來使電解區(qū)域電解液平穩(wěn)腐蝕，保證電解液利用。 根據(jù)測(cè)量區(qū)域的大小，各種直徑的墊圈可供選擇。
COULOSCOPE CMS2 STEP介紹 STEP Test 是在允許腐蝕的情況下用來同時(shí)測(cè)量電位差和多層鎳的鍍層厚度， 該方法是這個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域的標(biāo)準(zhǔn)。 多層鎳鍍層的品質(zhì)控制需要能在電鍍完成后立刻檢查厚度和電位差的儀器。 COULOSCOPE CMS2 STEP 就是為這個(gè)目的而設(shè)計(jì)的，它操作簡單，參比電極使用起來也不復(fù)雜，非常適合電鍍工廠苛刻環(huán)境下的這種應(yīng)用。
電鍍鎳層用作電解保護(hù)和提高機(jī)器表面屬性，如硬度等。特別是汽車工業(yè)中，電鍍鎳部件在防腐蝕方面要滿足很高的要求。單一鎳層無法滿足該要求。因此，目前正在開發(fā)非常復(fù)雜的鍍層系統(tǒng)，其中包含兩層、三層甚至四層鍍鎳層，還有鉻或銅鍍層。
測(cè)量原理 :
STEP Test 是(Simultaneous Thickness and Electrochemical Potential determination)（同時(shí)測(cè)量鍍層厚度和化學(xué)電位差）的簡寫， 是已經(jīng)標(biāo)準(zhǔn)化很久的測(cè)量方法。它可以同時(shí)測(cè)量各鍍層厚度和多層鎳系統(tǒng)中兩層之間的電化學(xué)電位差。 厚度測(cè)量時(shí)用庫侖法來測(cè)量，電位差通過外面鍍一層 AgCl 的銀參比電極來測(cè)量。電壓曲線可以顯示在屏幕上，鍍層厚度和電位差可以在圖上讀出。
為了獲得可以比較的穩(wěn)定電位差測(cè)量結(jié)果，參比電極到工件的距離必須始終保持不變。 這個(gè)問題通過特殊的測(cè)量槽得到解決。銀參比電極被設(shè)計(jì)成一個(gè)圓錐形的環(huán)狀電極，并作為測(cè)量槽底部的外殼與測(cè)量槽蓋連接。測(cè)量槽的設(shè)計(jì)保證了參比電極與工件之間的距離始終不變。銀參比電極被設(shè)計(jì)成一個(gè)圓錐形的環(huán)狀電極，并作為測(cè)量槽底部的外殼與測(cè)量槽蓋連接。測(cè)量槽的設(shè)計(jì)保證了參比電極與工件之間的距離始終不變。
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